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    双室磁控溅射镀膜机HD-CK1200-ICPProduct5
    
  
    
    
      
    
  
    
  

    

                
            
    
          
            
            
    
                
    
                    
    
                        
    双室磁控溅射镀膜机HD-CK1200-ICP
    
                        
    
                            
                        
    
                    
    
                    
    
                        
                        
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    双室及多腔室磁控溅射镀膜设备：
         双室磁控溅射镀膜机HD-CK1200-ICP是一款高兼容性设备，适合做菲林（NCVM）、车载、摄像头超硬AR、IR-CUT等滤光片、人脸识等产品;可制备NB2O5、SIO2 、SI3N4、SIH、Cr、In等不同膜层，镀膜工艺室不破空，稳定性重复性优异，采取整鼓平移连续的方式。

    ◆    工件转动：1~120r/min无极可调
    ◆极限真空：<2.0E-4Pa
    ◆膜层均匀性： ≤1%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
    ◆有效镀膜尺寸：
         HD-CK1200-ICP有效溅射区域Φ1200mm*H400mm
    

                    
    
                    

                    
                
    
            
    
            

            
    

        
    
    
    


    
     
 

    
  
    
    
    
      
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    公司自成立以来，一直是真空镀膜设备行业内的龙头企业，是行业内少数具有镀膜生产线设备整体设计及系统集成能力的企业之一，被中国通用机械工业协会真空设备分会认定为“真空设备行业重点企业”和“国内真空镀...
    
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    联系方式 : 15173259764
    
                   
                   
    公司地址：
    · 湘潭市九华经济区金鹏西路8号宏大真空研发创新基地（研发装配中心)
    · 湘潭市九华经济区盛世路8号（制造中心）
    
               
    
          
    
            
        
    
    
    
    
    
        
    
            
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