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双室磁控溅射镀膜机HD-CK1600-ICPProduct4

双室磁控溅射镀膜机HD-CK1600-ICP

发布时间：2022.06-21

双室及多腔室磁控溅射镀膜设备：

双室磁控溅射镀膜机HD-CK1600-ICP是一款高兼容性设备，适合做菲林（NCVM）、车载、摄像头超硬AR、IR-CUT等滤光片、人脸识等产品;可制备NB2O5,SIO2 ,SI3N4,SIH,Cr,In等不同膜层，镀膜工艺室不破空，稳定性重复性优异，采取整鼓平移连续的方式。

◆工件转动：1~120r/min无极可调
◆极限真空：<2.0E-4Pa
◆膜层均匀性： ≤1%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆有效镀膜尺寸：
HD-CK1600-ICP有效溅射区域Φ1600mm*H800mm

公司自成立以来，一直是真空镀膜设备行业内的龙头企业，是行业内少数具有镀膜生产线设备整体设计及系统集成能力的企业之一，被中国通用机械工业协会真空设备分会认定为“真空设备行业重点企业”和“国内真空镀...

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电子邮箱: sunguihong@163.com
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